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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:25

题名/责任者:
光刻技术/《半导体器件制造技术丛书》编写组编
出版发行项:
北京:国防工业出版社,1972
ISBN及定价:
/CNY0.22
载体形态项:
78页;19cm
编目员补充题名:
光刻技术
丛编项:
半导体器件制造技术丛书 9
团体责任者:
半导体器件制造技术丛书编写组
学科主题:
半导体工艺-电子束光刻
中图法分类号:
TN305.7
中图法分类号:
TN305
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TN305/10 10285954 90-3-3  密集书库(1楼) 图书定位    可借
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